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白炭黑表面化学基团的组成和结构研究
白炭黑表面化学基团的组成和结构研究
据测计算,沉淀二氧化硅(白炭黑)表面硅醇基的密度大约是5个Si—OH(nm)²
沉淀二氧化硅的表面化学反应能力直接与表面硅醇基的存在有关,硅醇基与有ji醇的羟基相似,可以发生化学反应,如它可以与一个含有羟基的化合物发生脱水缩合反应。
红外光谱的研究对阐明沉淀二氧化硅表面化学基团的组成和结构,提供了有力的依据。
沉淀二氧化硅(白炭黑)表面存在着—OH。许多研究表明,这些羟基以三种类型存在。
相邻羟基存在于沉淀二氧化硅中,这些羟基邻近,故以氢键形式彼此结合。相邻羟基对ji性武陟的吸附是十分重要的,它是比隔离羟基更有用的吸附点。
隔离羟基主要存在于脱水的表面,这种羟基本身没有发生氢键,故氢院子的正电性较强,很容易和负电子的原子如氧、氮等发生吸附,它不易升温脱除,沉淀二氧化硅(白炭黑)的隔离羟基比气相二氧化硅多。
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